攝影展《自省》亮相北京塞萬(wàn)提斯學(xué)院
    2007-12-19    肖晨    來(lái)源:經(jīng)濟(jì)參考報(bào)
  本報(bào)訊 西班牙攝影師拉菲爾·納瓦羅作品展《自省》日前在北京塞萬(wàn)提斯學(xué)院拉開(kāi)帷幕。
  據(jù)悉,拉菲爾·納瓦羅作品在近代西班牙攝影界具有很高聲望。
  本次展覽選取了納瓦羅最具代表性的47幅作品進(jìn)行展出。展覽包含兩個(gè)完整的系列:“觸”和 “醒”,以及一組20幅的兩格作品。“觸”系列為我們敞開(kāi)了通向私密世界的門(mén),在那里我們可以觀察作者的周遭經(jīng)歷;在作品“醒”中我們看到了皮膚與石頭,這恰是納瓦羅作品中常見(jiàn)的對(duì)比;20幅兩格攝影作品則是納瓦羅最具革新精神的一個(gè)系列。
  正如北京塞萬(wàn)提斯學(xué)院校長(zhǎng)易瑪·孔薩雷斯·布依所說(shuō),納瓦羅作品的感人力量來(lái)自于簡(jiǎn)潔的構(gòu)圖及由白到黑的細(xì)膩過(guò)渡。
  作為中國(guó)西班牙年的文化活動(dòng)之一,本次展覽由西班牙駐華大使館和北京塞萬(wàn)提斯學(xué)院共同主辦。展覽將持續(xù)到2008年1月22日。
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